电解双喷仪是一款简单实用的基本型电解双喷减薄设备。采购磁子驱动电解液涌流进行喷射抛光，抛光电压、破孔感光值、泵流速度旋扭可调，具有穿孔自动报警功能。能够使用少量电解液，液氮冷却方式，简单快速方便地进行金属的电镜样品制备。电解双喷仪的性能特点：加液氮制冷方式，控制盒与电解槽分开控制，抛光破孔自动报警抛光电压、电流值液晶数字显示抛光电压、破孔感光值及泵流速度旋钮可调磁力涌流式喷射抛光，进口PVC材料整体成型加工，无泄漏风险直流无刷驱动电机封闭隔离式设计，电机使用寿命长，稳定性好电...

烤胶机整个面板温度均匀，对基片膜层固化效果非常好。由于固化是从下往上，所以不会产生皮肤效应。这种“由里而外”的固化方式尤其适合较厚的膜层，因为较靠近基片的膜层会固化好，然后是膜层靠外的部分。该机由于升温，所以产量较高。烘烤时间用秒计算，而不是像传统烘箱用分钟或者小时计算。该机主要有机箱、加热部件和电控系统组成。机箱由箱体、罩壳和箱盖组成。加热的部件由加热板、加热元件及保温层、隔热层组成。电控系统由控温仪、继电器、热电偶、开关、指示灯、风扇、插座等组成。控温仪、电源开关、指示灯...

旋转涂覆技术一般采用设备是自动匀胶显影机。匀胶机有很多种称谓，又称甩胶机、匀胶台、旋转涂胶机、旋转涂膜机、旋转涂层机、旋转涂布机、旋转薄膜机、旋转涂覆仪、旋转涂膜仪、匀膜机，总的来说，他们原理都是一样的，即在高速旋转的基片上，滴注各类胶液，利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上，厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同，也和旋转速匀胶显影机度及时间有关。自动匀胶显影机清洗保养内容：1.装置壳体及盖板：用纯水浸湿的无尘布擦拭设备外壳，及显影室、水洗室盖。污物不能擦去纯水可...

匀胶机转速稳定、启动迅速，旋涂均匀，操作简单，结构紧凑实用，为实验室提供了理想的解决方案。广泛应用于微电子、半导体、新能源、化工材料、生物材料、光学，硅片、载玻片，晶片，基片，ITO导电玻璃等工艺制版表面涂覆等。匀胶机的工作原理是高速旋转基片，利用离心力使滴在基片上的胶液均匀的涂在基片上，甩胶机常用于各种溶胶凝胶实验中的薄膜制作，厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同，也和旋转速度及时间有关。匀胶机的操作说明：（1）选择合适的专用吸附盘（略小于样本尺寸），将缺口对准螺钉安装，...

伺服匀胶机一个典型的匀胶过程包括滴胶，高速旋转以及干燥(溶剂挥发)几个步骤。滴胶这一步把光刻胶滴注到基片表面上，高速旋转把光刻胶铺展到基片上形成薄层，干燥这一步除去胶层中多余的溶剂。两种常用的滴胶方式是静态滴胶和动态滴胶。静态滴胶就是简单地把光刻胶滴注到静止的基片表面的中心。滴胶的多少应根据光刻胶的粘度和基片的大小来确定。粘度比较高或基片比较大，往往需要滴较多的胶，以保证在高速旋转阶段整个基片上都涂到胶。伺服匀胶机动态滴胶方式是在基片低速旋转的同时进行滴胶，“动态”的作用是让...

台式匀胶机主要由样品台、滴胶装置和空心电动机组成，其工作原理是，通过在样品台上产生负压将需要旋涂的基底材料吸附在样品台上，光刻胶液滴注在基底材料的表面，通过准确控制电动机的旋转速度，以此来改变离心力的大小，同时通过控制胶液的流量来达到制备薄膜所需的厚度。台式匀胶机常用的滴胶方式分为两种，即静态滴胶和动态滴胶。静态滴胶是在基片静止时将光刻胶滴注到基片的中心位置，滴胶量还应根据光刻胶的黏度和基片的大小来确定。当光刻胶黏度较高或基片尺寸较大时，需要更多的光刻胶才能保证在高速旋转过程...

控温电解双喷仪使用注意事项：一、电源箱：电解减薄所用的电解液有很强的腐蚀性，所以在操作过程中，严禁电解液与计算机数据线接触。在开机前必须检查各部分连接是否正确。先确认电极插接良好，然后再启动仪器电源开关，调整好泵速度，在试验过程中根据实际情况改变泵速度。在试验结束后，清洁电源箱。保持试验室内通风良好。二、电解槽：控温电解双喷仪电解槽内部安装有制冷片，所以要求电解槽在移动过程中轻拿轻放，严禁碰撞；喷完样品后，将电解液倒入干净的烧杯中，然后再倒入盛放电解液的容器中，电解液可以重复...