匀胶机转速稳定、启动迅速，旋涂均匀，操作简单，结构紧凑实用，为实验室提供了理想的解决方案。广泛应用于微电子、半导体、新能源、化工材料、生物材料、光学，硅片、载玻片，晶片，基片，ITO导电玻璃等工艺制版表面涂覆等。匀胶机的工作原理是高速旋转基片，利用离心力使滴在基片上的胶液均匀的涂在基片上，甩胶机常用于各种溶胶凝胶实验中的薄膜制作，厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同，也和旋转速度及时间有关。匀胶机的操作说明：（1）选择合适的专用吸附盘（略小于样本尺寸），将缺口对准螺钉安装，...

伺服匀胶机一个典型的匀胶过程包括滴胶，高速旋转以及干燥(溶剂挥发)几个步骤。滴胶这一步把光刻胶滴注到基片表面上，高速旋转把光刻胶铺展到基片上形成薄层，干燥这一步除去胶层中多余的溶剂。两种常用的滴胶方式是静态滴胶和动态滴胶。静态滴胶就是简单地把光刻胶滴注到静止的基片表面的中心。滴胶的多少应根据光刻胶的粘度和基片的大小来确定。粘度比较高或基片比较大，往往需要滴较多的胶，以保证在高速旋转阶段整个基片上都涂到胶。伺服匀胶机动态滴胶方式是在基片低速旋转的同时进行滴胶，“动态”的作用是让...

台式匀胶机主要由样品台、滴胶装置和空心电动机组成，其工作原理是，通过在样品台上产生负压将需要旋涂的基底材料吸附在样品台上，光刻胶液滴注在基底材料的表面，通过准确控制电动机的旋转速度，以此来改变离心力的大小，同时通过控制胶液的流量来达到制备薄膜所需的厚度。台式匀胶机常用的滴胶方式分为两种，即静态滴胶和动态滴胶。静态滴胶是在基片静止时将光刻胶滴注到基片的中心位置，滴胶量还应根据光刻胶的黏度和基片的大小来确定。当光刻胶黏度较高或基片尺寸较大时，需要更多的光刻胶才能保证在高速旋转过程...

控温电解双喷仪使用注意事项：一、电源箱：电解减薄所用的电解液有很强的腐蚀性，所以在操作过程中，严禁电解液与计算机数据线接触。在开机前必须检查各部分连接是否正确。先确认电极插接良好，然后再启动仪器电源开关，调整好泵速度，在试验过程中根据实际情况改变泵速度。在试验结束后，清洁电源箱。保持试验室内通风良好。二、电解槽：控温电解双喷仪电解槽内部安装有制冷片，所以要求电解槽在移动过程中轻拿轻放，严禁碰撞；喷完样品后，将电解液倒入干净的烧杯中，然后再倒入盛放电解液的容器中，电解液可以重复...

电解双喷减薄仪是应用于透射电子显微镜金属试样制备的专用设备。减薄仪采用计算机控制，半导体制冷，样品制备过程中全程自动化。由于采用了半导体制冷技术，开机后可以在短时间内将电解液的温度降低。减薄仪具有多种功能设置，可以根据您的要求选择不同的工作参数，完成不同的工作程序。减薄仪运用半导体制冷技术，能够迅速降低电解液温度，免除应用液氮或干冰制冷所产生的麻烦和危险，并保持温度稳定，确保样品制备工艺规范统一。穿孔检测采用CCD作为感光部件，能实时监控，大大提高了穿孔报警的灵敏度，同时也能...

影响涂膜的主要因素有涂布速度以及施加在涂膜器上的压力等，由于人工涂出的涂层经常出现不一致，尤其是不同人之间产生的差异较大，这就给比较样板之间的测试结果带来了困难。涂膜机通过控制速度以及稳定的压力来保证涂布涂胶效果，保证涂布涂胶的均匀性以及平稳性。它可以让使用者可以在纸张、塑料、金属、PVC、PET、布料、铝合金板等平面各种材料进行涂布实验，能在不同底材上涂布出精确的湿膜，大大提高了涂膜的重现性。涂膜机的操作方式：将仪器置于稳固的工作台上，调整仪器底脚使仪器安放平稳。将机箱后侧...

匀胶机一个典型的匀胶过程包括滴胶，高速旋转以及干燥(溶剂挥发)几个步骤。匀胶机滴胶这一步把光刻胶滴注到基片表面上，高速旋转把光刻胶铺展到基片上形成薄层，干燥这一步除去胶层中多余的溶剂。两种常用的滴胶方式是静态滴胶和动态滴胶。静态滴胶就是简单地把光刻胶滴注到静止的基片表面的中心，滴胶的多少应根据光刻胶的粘度和基片的大小来确定。粘度比较高或基片比较大，往往需要滴较多的胶，以保证在高速旋转阶段整个基片上都涂到胶。动态滴胶方式是在基片低速旋转的同时进行滴胶，“动态”的作用是让光刻胶容...