1.EC400是一台高真空蒸发镀膜设备。$n2.设备主要由真空室、蒸发源、膜厚监测仪、样品台、真空获得系统、真空测量系统、气路系统、PLC+触摸屏自动控制系统等组成。$n3.该设备主机与控制一体化设计，操控方便；结构紧凑，占地面积小。

1.EC400是一台高真空蒸发镀膜设备。 2.设备主要由真空室、蒸发源、膜厚监测仪、样品台、真空获得系统、真空测量系统、气路系统、PLC+触摸屏自动控制系统等组成。 3.该设备主机与控制一体化设计，操控方便；结构紧凑，占地面积小。

1.EC400是一台高真空蒸发镀膜设备。$n2.设备主要由真空室、蒸发源、膜厚监测仪、样品台、真空获得系统、真空测量系统、气路系统、PLC+触摸屏自动控制系统等组成。$n3.该设备主机与控制一体化设计，操控方便；结构紧凑，占地面积小。

1.MS450是一台高真空磁控溅射镀膜设备。$n2.设备主要由真空室、溅射靶枪、溅射电源、加热样品台、流量控制系统、真空获得系统、真空测量系统、气路系统、PLC+触摸屏自动控制系统等组成。$n3.该设备主机与控制一体化设计，操控方便；结构紧凑，占地面积小。

1.MS450是一台高真空磁控溅射镀膜设备。$n2.设备主要由真空室、溅射靶枪、溅射电源、加热样品台、流量控制系统、真空获得系统、真空测量系统、气路系统、PLC+触摸屏自动控制系统等组成。$n3.该设备主机与控制一体化设计，操控方便；结构紧凑，占地面积小。

1.MS450是一台高真空磁控溅射镀膜设备。$n2.设备主要由真空室、溅射靶枪、溅射电源、加热样品台、流量控制系统、真空获得系统、真空测量系统、气路系统、PLC+触摸屏自动控制系统等组成。$n3.该设备主机与控制一体化设计，操控方便；结构紧凑，占地面积小。