1.MS450是一台高真空磁控溅射镀膜设备。$n2.设备主要由真空室、溅射靶枪、溅射电源、加热样品台、流量控制系统、真空获得系统、真空测量系统、气路系统、PLC+触摸屏自动控制系统等组成。$n3.该设备主机与控制一体化设计，操控方便；结构紧凑，占地面积小。

1.MS450是一台高真空磁控溅射镀膜设备。$n2.设备主要由真空室、溅射靶枪、溅射电源、加热样品台、流量控制系统、真空获得系统、真空测量系统、气路系统、PLC+触摸屏自动控制系统等组成。$n3.该设备主机与控制一体化设计，操控方便；结构紧凑，占地面积小

1.MS450是一台高真空磁控溅射镀膜设备。$n2.设备主要由真空室、溅射靶枪、溅射电源、加热样品台、流量控制系统、真空获得系统、真空测量系统、气路系统、PLC+触摸屏自动控制系统等组成。$n3.该设备主机与控制一体化设计，操控方便；结构紧凑，占地面积小。

镀膜设备主要功能能够在微颗粒表面沉积各种金属薄膜(包括磁性金属膜)、金属氧化物薄膜、金属氮化物薄膜及合金薄膜，且所镀薄膜致密、均匀、纯度高、附着力强等。

1.MS450是一台高真空磁控溅射镀膜设备。$n2.设备主要由真空室、溅射靶枪、溅射电源、加热样品台、流量控制系统、真空获得系统、真空测量系统、气路系统、PLC+触摸屏自动控制系统等组成。$n3.该设备主机与控制一体化设计，操控方便；结构紧凑，占地面积小。

实验室真空镀膜设备主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空电阻加热蒸发，电子枪加热蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积，离子束溅射等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。