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  • 2022

    9-16

    匀胶机旋涂仪主要用于微加工、半导体、微电子、光电子和纳米技术工艺中的光刻、烘焙和其他设备,如硅芯片和陶瓷芯片上的均化胶。均匀胶旋涂仪器价格低廉,操作简单,结构紧凑,占地面积小,为实验室提供了理想的解决方案。它可以在很大程度上确保均匀的旋涂;可以旋涂不同尺寸的基材。匀胶机旋涂仪通过在片材保持器上产生负压来吸收待旋涂在片材固定器上的基材,并且胶滴到基材表面上。离心力通过精确调节电机的转速而改变。同时,胶水流由滴胶装置控制,以达到薄膜制备所需的厚度。此外,膜厚度还取决于环境因素,如...

  • 2022

    9-9

    紫外清洗机不需要任何溶剂,也不会损坏清洁表面。去除大多数无机基板中的有机污染物。该清洗机提供了一种高效、精确的清洗方法,也是一种非常重要的表面改性技术。应用于表面处理、有机清洗、提高表面亲水性、降低表面接触角、增加表面附着力、增强表面功函数等。紫外清洗机的工作原理:通过产生185nm和254nm高强度UV光分解有机分子(污染物)。185nm的光可以将氧分子O2转变成活性的O3臭氧分子。254nm的光同时激发表面的有机分子,使其更容易被臭氧分子吸收并分解。由于臭氧分子存在时间短...

  • 2022

    8-30

    实验室等离子清洗机是一项新的高科技技术,它使用等离子来达到传统清洗方法无法达到的效果。等离子清洗机应用广泛。接下来就给大家介绍一下实验室等离子清洗机的优势有哪些?实验室等离子清洗机的设备优势:1、等离子体清洗后,清洗对象干燥,无需进一步干燥即可进入下一工序。可以提高整个工艺管线的处理效率;2、等离子清洗使用户避免了有害溶剂对人体的伤害,同时也避免了湿法清洗时清洗物易清洗的问题;3、避免使用有害的ODS溶剂,如三氯乙烷,以免清洗后产生有害污染物。因此,这种清洁方法是一种环保的绿...

  • 2022

    8-19

    紫外清洗机通常用于扫描探针显微镜的样品应用。可用于原子力显微镜探头、扫描探针显微镜标准探头、表面常规油层及残留无机材料的清洗。它还可用于改变物体表面的疏水性,这有利于零件和表面的化学改性。紫外清洗机的保养要点:1、使用紫外线灭菌器的最佳条件水温:5℃-50℃;相对温度:不超过93%;电压:220±10v50hz;进入处理设备的饮用水水质具有95%-100%的透射率。如果待处理水质低于国家标准,如色度高于15度,浊度高于5度,铁含量高于0.3mg/L,应先采用其他...

  • 2022

    8-12

    匀胶机旋涂仪广泛应用于MEMS微加工、生物、材料等领域。它可用于制备厚度小于10nm的薄膜。它也常用于厚度约为1-100微米的光刻胶沉积层的光刻工艺中。许多平面基板材料可用于涂层,如半导体硅片、载玻片、晶片、基板、ITO导电玻璃等。匀胶机旋涂仪的工作原理:通过在晶片支架上产生负压,待旋涂的基材吸附在晶片架上,胶水滴在基材表面。通过精确调节电机的转速来改变离心力。同时,滴胶装置控制胶水的流速,以达到制备薄膜所需的厚度。此外,涂膜厚度还取决于旋涂时间、胶液粘度、涂膜温度和湿度等环...

  • 2022

    8-5

    控温匀胶机的操作使用:1、选择适合的片托,略小于样片尺寸,将缺口对准螺钉卡口,安装牢固。2、开启电源3、调节设置合适的匀胶时间转速步骤。支持100组每组100步的程序设置和存储调用。4、放片,并保证样片处于载物盘正中心。5、开启真空吸附,按下“真空”键开始吸附样片。注意:真空状态显示,支持真空报警,真空错误电机停止工作。(PE型配备实时真空数值显示)6、程序设置完毕按“执行”键,电机旋转,速度加速度连续可调转速实时显示。转速时间...

  • 2022

    7-28

    实验室涂膜机是指在基材上涂覆一层或多层涂层以形成固体连续薄膜的机器。使用精确控制的棒或涂膜器以选定的速度来回移动。由于试纸平滑地吸附在吸盘上,并且在涂覆期间添加到施工工具的剪切速率和重量保持不变,因此涂层膜的再现性大大提高。实验室涂膜机解决的四个问题:1、超薄涂层涂布机的薄膜厚度不是由涂布机决定的,而是由涂布机上匹配的线材或制备装置决定的。因此,线材和制备剂的精度对涂层的精度有着决定性的影响。在制备超薄薄膜时,一方面选择线材的精度很高,另一方面,薄膜机的恒速恒压打样也会减少薄...

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