程控烤胶机可在电子、化工等行业的工矿企业、科研、教育等单位，进行热老化、温度试验及干燥、烘焙、消毒和热处理等试验用。烤胶机整个面板温度均匀，对基片膜层固化效果好。由于固化是从下往上，所以不会产生“皮肤效应”。这种“由里而外”的固化方式尤其适合较厚的膜层，因为最靠近基片的膜层会首先固化好，然后是膜层靠外的部分。该款烤胶机由于升温迅速，所以产量较高。烘烤时间用秒计算，而不是像传统烘箱用分钟或者小时计算。程控烤胶机将加热元件内置于加热平台，同时其加热平台用铝块加工而成，因此在保证热...

程控匀胶机是高精密的旋转涂膜仪，其主要被用来替高等院校、科研院所、研发中心等进行各种功能薄膜的研究，开发。对于半导体硅片、晶片、ITO导电玻璃、光学玻璃、生物薄膜、制版等工艺表面涂覆十分适用。程控匀胶机具有速度精度高、转速稳定、旋转加速度可控、匀胶过程多段程序控制等特点。主要用于微电子、半导体、太阳能电池、新能源、生物材料、光学器件等领域的表面涂膜工艺，例如各类纳米薄膜材料、光阻涂层、生物功能涂层的制备。程控匀胶机的特点：1、机身选用耐酸碱、耐冲击、耐腐蚀不锈钢、不生锈，便于...

电解双喷减薄仪双喷减薄实验过程：连线：连接电解槽和电源箱的连接控制电缆和USB线，连接外接电源到控制箱。按下电脑开关，启动控制电脑，电脑启动后会出现触摸屏触点校准程序，按照提示完成触点校正后会出现软件控制界面。点击软件控制界面左上角的“总开关”，控制程序开始运行，此时视频监控中会出现电解槽内CCD摄像头的监控画面。连接外部水冷：将电解双喷减薄仪电解槽部分与外部冷却水循环正确连接，确保冷却水从电解槽的进水口流入，从出水口流出。打开外部循环水开关，观察水流速度，控制流速，测量外部...

电解双喷仪采用触摸屏控制，具有可视化、智能化的特点，能够进行独立冷却源精确控温的金属电镜样品制备设备，双喷仪具有制备参数可存贮、调用，样品制备效果好，重复性高等显著特点。电解双喷仪的功能特点：1.触摸屏式人机界面：全彩触摸屏控制，操作方便，简单易用。良好的人机界面设计，数据直观，电解质温度、电流变化曲线实时显示。2.参数存贮调用功能：对每次操作设置的抛光电压、泵流速度、感光停止值、推荐温度以及电解液名称等均可进行命名存贮和随时调用。3.*的电压扫描功能：对金属样品可进行选定范...

烤胶机是针对半导体工艺生产中晶圆烘烤而设计的一款产品，是—种设计为精确控温、准确计时和接近式加热的高性能实验窒设备，带有真空吸附、顶针定位烤胶、线性升温等功能，可实现智能化編程烤胶控制。仪器采用高精度微处理器，温度控制更加精确。可同时显示设定温度和实际温度，外观小巧精致，更适宜通风橱使用。结构简单，可靠性高，元器件均做防腐蚀处理加热部件与元器件分离设计，更加耐用。烤胶机外壳采用不锈钢镀膜处理，耐氧化不变色。加热部件采用高温加热盘管，具有使用寿命长，加热均匀性高的特点。采用新颖...

匀胶机的匀胶转速是匀胶过程中最重要的因素。基片的转速不仅影响到作用于光刻胶的离心力，而且还关系到紧挨着基片表面空气的*湍动和基片与空气的相对运动速度。光刻胶的最终膜厚通常都由匀胶转速所决定。尤其在高速旋转这个阶段。膜厚在很大程度上是作用于液体光刻胶上﹑方向朝基片边缘的剪刀力与影响光刻胶粘度的干燥速率之间平衡的结果。随着光刻胶中溶剂不断挥发，粘度越来越大，直到基片旋转作用于光刻胶的离心力不再能使光刻胶在基片表面移动。到这个点上，胶膜厚度不会随匀胶时间延长而变薄。匀胶机匀胶过程中...

涂布机用送料效率和什么有关目前应用的涂布机送料机构，包括保护壳体电机和绝缘杆，设有操作结构，使机构可以自由伸缩和展开，便于涂布机的加工，增加方便的机制，性和实用性解决了机构在使用后占用大空间的问题，并设有伸缩支撑杆，伸缩支撑杆采用伸缩杆结构，伸缩支撑杆可以自由伸展和伸缩以便于机构的支撑，并且便于伸缩支撑杆的伸缩和放置。当涂布机结构向上移动时，结构使金属导电块远离电机电源线的中间，从而断开电机电源线使电机断电，保护设备的正常运行的机制，同时涂布机设有干燥装置，该干燥装置通过上干...