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实验室真空镀膜设备

简要描述:1.MS450是一台高真空磁控溅射镀膜设备。
2.设备主要由真空室、溅射靶枪、溅射电源、加热样品台、流量控制系统、真空获得系统、真空测量系统、气路系统、PLC+触摸屏自动控制系统等组成。
3.该设备主机与控制一体化设计,操控方便;结构紧凑,占地面积小。

  • 所在城市:无锡市
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新日期:2024-05-21
  • 访  问  量:353

详细介绍

品牌LEBO/雷博
  1.MS450是一台高真空磁控溅射镀膜设备。
 
  2.设备主要由真空室、溅射靶枪、溅射电源、加热样品台、流量控制系统、真空获得系统、真空测量系统、气路系统、PLC+触摸屏自动控制系统等组成。
 
  3.该设备主机与控制一体化设计,操控方便;结构紧凑,占地面积小。
 
  4.主要用途:
 
  1. 开发纳米级单层、多层及复合膜层等。
 
  2. 制备金属膜、合金膜、半导体膜、陶瓷膜及介质膜等,例:银、铝、 铜、镍、铬、镍铬合金、氧化钛、氮化钛、氮化铬、ITO......
 
  3. 两靶单独溅射、依次溅射、共同溅射。
 
  5.应用领域:
 
  1. 高校、科研院所的教学、科研实验及生产型企业前期探索性实验及开发新产品等。
 
  2. 钙钛矿太阳能电池、OLED、OPV 太阳能电池等行业。
 
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