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一文解析台式匀胶机的设备特点

发布时间:2022-04-25      点击次数:59
  台式匀胶机适合半导体硅片的匀胶镀膜等其用途广泛包括适合半导体大型晶圆硅片,芯片,晶片,基片,液晶片,华阳板等各种胶体的工艺制版表面涂覆或光刻工艺匀胶。
 
  台式匀胶机的设备特点
 
  1、该设备采用先进技术,使用进口配件使高转速加速度更加稳定,控制更加精确.电机采用新型直流永磁电机抗电磁干扰。
 
  2、定子和转子分开供电.定子用稳定电源供励磁电流,转子用开关电源调速,它比可用控硅调速优越得多,转速在1000~8000转/分范围内非常稳定。在未取得真空的状态不会转到,保证了使用的可靠性。
 
  3、本匀胶机有两个转速.在启动之后,先以低速运转,使胶摊开,然后自动变到高速运转。两种转速及相应的时间分别可调。
 
  4、本匀胶机测速采用光电的办法,在光电测速盘的边上有三个缺口,分布于盘的周围,盘边的下面安装有光电开关,光源照到光电经反射到接收器,产生光电脉冲,测速盘旋转一周,产生三个脉冲.闸门由秒脉冲电路产生,周期为两秒。
 
  5、"吸片"采用电磁阀控制气路,这样适合流水线的工艺,一个气泵可同时带几个匀胶机工作,提高了效率。
 
  6、匀胶机的定时功能由时基电路556来完成,把556按单稳形式连接,改变RC常数,就可以改变两个匀胶时间。
 
  7、智能型调节匀胶时间,时间分别控制在1~18秒和3秒~1分钟。
 
  8、在安装结构上,采取了减振措施,保证了在运转时噪音很低,保证涂覆表面均匀,保证通过调节转速调节涂覆厚度。
江苏雷博科学仪器有限公司
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